鎧柏科技Sputter 24超高真空磁控濺射鍍膜機有多種子系統(tǒng)都是使用第一流UHV配件及高精尖的技術(shù)研制的高溫樣品架在氧氣或臭氧環(huán)境下使用效率好, 在真空內(nèi)沒有加熱組件所以不會故障加熱可以達到1100攝氏度，本底真空可達到10-9 ~ 10-10 Torr量級。在超高真空環(huán)境下制備出的薄膜材料含氧量低、晶粒性更為明顯，非常適用于氧化物半導體, 磁性材料, 鈮, 鋁超導結(jié)、量子器件和自旋電子學的研究開發(fā)。
技術(shù)參數(shù)：
1. 可配備離子束輔助沉積；
2. 可配備樣品預清洗功能；
3. 可配備快速進樣室；
4. 本底真空可達10-9 ~ 10-10 Torr；
5. 單基片設計，尺寸10X10mm, 2inch, 4 inch, 6 inch, 8 inch
6. 基片可旋轉(zhuǎn)并加熱：300℃/800℃/ 使用激光加熱可達1100攝氏度；
7. 最多可拓展6支磁控濺射靶槍，共濺射；
8. 靶槍角度可調(diào)，濺鍍距離可調(diào)，標準靶與強磁靶；
9. 防交叉污染隔板設計；
10. 可配備自動壓力控制系統(tǒng)；