雙電子束可以沉積大尺度薄膜，且具有極高質(zhì)量和極高重復(fù)性。它配備了2個(gè)電子束源。每個(gè)電子束源安裝有多個(gè)靶材坩堝，其最多可存儲(chǔ)6種靶材料。由于它有2個(gè)電子束源，可以同時(shí)沉積2種不同的材料到襯底上。此外，還配備有多個(gè)樣品公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)的樣品行星機(jī)構(gòu)?？梢栽诙鄠€(gè)襯底上精確和同時(shí)沉積，同時(shí)顯著改善沉積薄膜的均勻性和質(zhì)量。
此外，利用FBBEAR系統(tǒng)控制軟件使工藝過程自動(dòng)化，從而實(shí)現(xiàn)了精確控制和高穩(wěn)定性。FBBEAR，提供完整的數(shù)據(jù)記錄，精確的參數(shù)調(diào)整，以及沉積過程的自動(dòng)參數(shù)設(shè)置。這使得沉積過程易于操作、完全自動(dòng)化、用戶友好、一致，并且將提供可靠的實(shí)驗(yàn)重復(fù)性。
電子束蒸發(fā)可沉積的材料包括：金屬(Al、Nb、Ge等)、電介質(zhì)、氧化物(SiO2、Ta2O5、Al2O3等)、半導(dǎo)體和多種合金等。
