利用磁控濺射進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)物理氣相沉積(PVD)作業(yè)在玻璃(or 其他材料)上進(jìn)行鍍膜工藝
1. 多腔連續(xù)水平式生產(chǎn)
2. 尺寸2.5~5代線 (370x470mm~1100x1250mm)
3. 純金屬濺鍍、反應(yīng)式濺鍍、混合式濺鍍、表面清潔,改質(zhì) 等多種制程搭配
4. 全自動化系統(tǒng)
5. 簡易操作人機(jī)界面
應(yīng)用范例：膜層和膜系: AZO, Cu, Ga, ITO, Mo, Al,In,Ag....
抗電磁波(EMI)、產(chǎn)品裝飾膜(NCVM)、被動元件(Chip R)、觸控?zé)赡?T.P)、彩色濾光片(C.F)、顯示器(TFT;OLED)、薄膜太陽能電池(Solar cell)