鎧柏科技有限公司的EBS-150電子束蒸發(fā)系統(tǒng)配有可編程控制，可以自動做多層膜蒸發(fā)，可以提供多坩堝電子束蒸發(fā)源，依次蒸發(fā)不同的蒸發(fā)材料，而不破壞真空。系統(tǒng)配置有用于單層膜和多層膜自動工藝控制的鍍膜沉積控制器。
技術(shù)參數(shù)：
Vacuum Chamber: 316不銹鋼圓柱形腔體，最低outgas的不銹鋼材料；
Pumping: 分子泵或冷凝泵；
Load Lock: 手動或自動傳樣片,適合各種形狀尺寸的小破片到200mm大的圓片，高真空背景傳遞；
Process Control: PC Labview自動控制界面，菜單控制，數(shù)據(jù)獲取和遠程控制 ；
In-Situ Monitoring & Control: QCM膜厚監(jiān)控，光學(xué)膜厚監(jiān)控；
RGA殘余氣體分析；
Substrate Fixture: 單片，多片，行星式襯底夾具；
Substrate Holders: 可加熱，冷卻，旋轉(zhuǎn)；傾角；
Ion Source: 襯底預(yù)清洗，納米表面改性。