電子束蒸發(fā)可以想象成超高溫的熱蒸發(fā)過程，與SPUTTER磁控濺射，是兩種最常見的物理氣相沉積(PVD)之一。 藉由引入電子束將大量能量直接輸送到源材料中，使得金屬和介電材料（例如，金和二氧化硅）能夠分別在極高的熔化溫度下蒸發(fā)。
電子束蒸發(fā)原理是，蒸發(fā)材料放入水冷銅爐或坩堝中，并通過聚焦電子束加熱。電子束產(chǎn)生的熱量使材料蒸發(fā)，然后沉積在基片上，形成所需的鍍膜。
因此，其可以沉積采用標(biāo)準(zhǔn)電阻熱蒸發(fā)無法蒸發(fā)的材料。電子束蒸發(fā)的另一個好處是，沉積速率高于濺射或電阻蒸發(fā)速率。
電子束蒸發(fā)用于沉積各種材料。電子束蒸發(fā)通常用于光學(xué)鍍膜應(yīng)用，例如，激光光學(xué)和太陽能電池板，眼鏡和建筑玻璃，提供所要求的光學(xué)、電學(xué)和機械質(zhì)量。與其他PVD工藝相比，電子束蒸發(fā)提供更高的材料利用效率，并降低成本。
鎧柏科技有限公司的電子束蒸發(fā)系統(tǒng)配有可編程控制，可以自動做多層膜蒸發(fā)，可以提供多坩堝電子束蒸發(fā)源，依次蒸發(fā)不同的蒸發(fā)材料，而不破壞真空。系統(tǒng)配置有用于單層膜和多層膜自動工藝控制的鍍膜沉積控制器。
電子束蒸發(fā)可控、可重復(fù)，并且兼容使用離子輔助源，增強人們期望的鍍膜特性性能。我們在金屬化、剝離和精密光學(xué)鍍膜提供交鑰匙工藝解決方案方面擁有20多年的經(jīng)驗。
我們產(chǎn)品的主要特點：
1、基片臺可定制，單片或多片。
2、具有內(nèi)腔屏蔽的矩形SS316L電拋光室，腔體適中。
3、本底真空10-7 Torr，可使用冷泵或者大抽速分子泵，抽氣速度快。
4、超高真空泵和量規(guī)。
5、6×3行星樣品操縱臺（自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)）。
6、樣品架有幾種可以供客戶選擇：1、單坩堝，只能自轉(zhuǎn)。2、多坩堝（1~6），可行星式旋轉(zhuǎn)。
7、選擇可傾斜的樣品架（此技術(shù)本公司獨有）。
8、坩堝防污染設(shè)計；
9、石英紅外加熱燈，樣品可旋轉(zhuǎn)并加熱至：300℃/500℃/800℃；在特殊情況下可保證樣品不超過80攝氏度，對工藝要求比較嚴(yán)苛使用者來說非常重要，因為光刻膠遇到高溫會起泡，所以希望溫度越低越好。適用于金屬沉積，金屬剝離工藝。
10、具有多種靶材坩堝的電子束源?？膳鋫鋯位螂p電子束源。每個電子束源可安裝有多個靶材料坩堝，其最多可存儲6種靶材料。2個電子束源，可以同時沉積2種不同的材料到您的襯底上。它還可以用于高熔點溫度元素沉積。此外，還配備有旋轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)多個樣品的樣品行星機構(gòu)，可以在許多襯底上精確和同時沉積，而且顯著改善沉積薄膜的均勻性和質(zhì)量。
11、電子槍可選用日本愛發(fā)科，美國泰利瑪，雙晶振可以減少因晶振失誤導(dǎo)致的樣品報廢的困擾。12、我們有雙電子束或單電子束熱蒸發(fā)聯(lián)用系統(tǒng)。
13、厚度監(jiān)控器。
14、FBBeam系統(tǒng)控制軟件使過程自動化，從而實現(xiàn)了精確控制和高穩(wěn)定性。FBBEAR，提供完整的數(shù)據(jù)記錄，精確的參數(shù)調(diào)整，以及沉積過程的自動參數(shù)設(shè)置。這使得沉積過程易于操作、完全自動化、用戶友好、一致，并且將提供可靠的實驗重復(fù)性。
15、可配備離子束輔助沉積；
16、可配備快速進(jìn)樣室；
17、可與手套箱集成；
18、可根據(jù)用戶要求將其它鍍膜技術(shù)與電子束蒸發(fā)集成，例如磁控濺射，熱蒸發(fā)等。
應(yīng)用：
電子束蒸發(fā)可生長的材料包括：金屬(Al、Nb、Ge等)、電介質(zhì)、氧化物(SiO2、Ta2O5、Al2O3等)、半導(dǎo)體和幾種合金等。