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雙電子束可以沉積大尺度薄膜，且具有極高質(zhì)量和極高重復(fù)性。它配備了2個(gè)電子束源。每個(gè)電子束源安裝有多個(gè)靶材坩堝，其最多可存儲(chǔ)6種靶材料。由于它有2個(gè)電子束源，可以同時(shí)沉積2種不同的材料到襯底上。此外，還配備有多個(gè)樣品公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)的樣品行星機(jī)構(gòu)?？梢栽诙鄠€(gè)襯底上精確和同時(shí)沉積，同時(shí)顯著改善沉積薄膜的均勻性和質(zhì)量。 此外，利用FBBEAR系統(tǒng)控制軟件使工藝過(guò)程自動(dòng)化，從而實(shí)現(xiàn)

EBS-150Feature:-Base pressure:5E-8 torr-8 inch sample (max.)-Tilt/raotation Substrate Manipulator with Z stage-IBAD (option)-Fully automatic process via software control-Water cooling chamber